Kioxia Corporation anunció que la construcción del edificio Fab2 (K2) de su planta Kitakami se completó en julio. K2 es la segunda planta de fabricación de memoria flash en la planta de Kitakami en la prefectura de Iwate, Japón. A medida que la demanda se recupere, la compañía realizará gradualmente inversiones de capital mientras monitorea de cerca las tendencias del mercado de memoria flash. Kioxia planea comenzar a operar en K2 en el otoño del año calendario 2025.
Además, algunos departamentos de administración e ingeniería se mudarán a un nuevo edificio administrativo ubicado junto a K2 a partir de noviembre de 2024 para supervisar el funcionamiento de K2. Una parte de la inversión para K2 será subsidiada por el gobierno japonés, según el plan aprobado en febrero de 2024.
Bajo su misión de mejorar el mundo con «memoria», Kioxia se compromete a aprovechar las oportunidades del mercado de memoria flash para la creciente demanda de aplicaciones de IA y centros de datos. Kioxia continuará implementando iniciativas proactivas para mejorar sus capacidades de investigación y desarrollo de memoria flash e implementará inversiones de capital ágiles en línea con las tendencias del mercado.
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